Prodrive Technologies推出了一种技术,可替代在不同等离子体负载条件下面临挑战的固态和机械匹配箱。
即时等离子体发生器扩展了对原子级等离子体刻蚀和沉积处理中等离子体条件的控制。它通过高速脉冲和近任意包络控制支持晶圆点火和稳定,同时保持精确的功率传输。
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无需匹配盒或频率调谐
消除了使用缓慢且不精确的匹配技术,如可变组件或频率调谐。
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无需频率调谐
节省安装、设置和匹配时间。
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微秒级输出功率稳定
近实时控制等离子体,微秒级别。
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高级控制机制
发生器控制经过优化,适用于等离子体负载。
特点
- 微秒级波形控制
- 集成静脉传感器
- 动态高速(多级)脉冲
- 多种输出控制模式
- 可编程(锁定)相位
- 公共励磁机同步(CEX)
- EtherCAT
- DC偏置测量支持
- 弧管理支持
福利
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改进的过程控制
微秒级控制确保流程稳定运行并提供最佳诊断。
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降低系统复杂性
通过使用单一盒子解决方案,移除火柴盒、火柴盒控制器和其他外部传感器。
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减少工艺漂移
通过集成传感器实现超快速稳定的射频发生,减少工艺漂移。
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增强系统效率
通过减少中间组件来优化效率,从而提升系统整体效能。
应用领域
市场与行业
产品规格
| Application | Plasma etching (ALE, conductor or dielectric), Plasma deposition (PVD, PECVD, PEALD) and Chamber Clean |
| Frequency | 13.56MHz±10% or others |
| tperiod | 10us - 1s (1-100kHz) |
| Multi-level pulse levels | Infinite (fully arbitrary) |
| trise/tfall | <2us |
| tsettling | <4us |
| Power | 1-5kW Delivered power |
| Control modes | Power, Voltage, Current |
| AC input | 208 to 480VAC 3ph VAC |
| Cooling | Air cooled or water cooled |
| Communication interfaces | Synchronization (CEX), EtherCAT, DeviceNet, Interlock |
| Configuration / Monitoring | Ethernet (GUI), EtherCAT, DeviceNet |
| Advanced features | Integrated IV sensor, High speed oscilloscope, Arc management, integrated DC blocking and DC bias measurement |
| Customization | Customization is fully possible. Please contact us for further discussion. |