随着半导体器件持续微缩，等离子体刻蚀和沉积工艺需要对离子能量和等离子体密度进行更严格的控制。维持这种控制对于实现更小特征尺寸和稳定的工艺性能至关重要。
Prodrive Technologies 开发了定制波形发生器——Axiom，专用于刻蚀和沉积应用中的先进等离子体偏置。它能够实现定制偏置波形，支持更精确的工艺控制，同时有助于降低系统复杂性。
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灵活的波形控制
所有波形参数，如占空比、电压、斜率和时序均可调整，同时保持脉冲完整性。
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单箱解决方案
只需控制单个盒子，而非多个子系统，并消除缓慢且不可预测的匹配盒。
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高系统效率
以更低的功率实现更高的蚀刻或沉积速率。
功能特点
- 灵活的数字波形控制
- 可编程占空比
- 内置高速示波器
- EtherCAT接口
- 公共励磁机接口（CEX）
- 开/关调制
- 无需火柴盒
- 集成直流隔离电容器
福利
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改进的过程控制，更低的损伤
通过调整波形参数，在降低晶圆损伤的情况下获得最佳IEDF控制。
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降低系统复杂性
通过使用单盒解决方案，去除火柴盒、火柴盒控制器和其他外部传感器。
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减少过程漂移
直接在电极上控制波形，与匹配箱射频偏置方案相比，能够实现更低的工艺漂移。
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增强系统效率
与射频偏置相比，改善了刻蚀速率和选择性。
市场与行业
产品规格
