射频等离子电源解决方案

蚀刻用定制化偏压波形发生器和沉积等离子电源解决方案

当今世界计算能力的需求正在高速增长。处理器和计算机是推进人工智能的关键，随着计算机和处理器的发展，集成电路正被推向极限。虽然半导体仍在基于3nm的逻辑点上运行，但更精确的技术正在孕育。

等离子蚀刻和沉积是图案转移制程的关键技术，对于生产更小尺寸的平板印刷物仍然至关重要。然而，这些工艺在如何实现高精度方面正面临日益增加的挑战。

降低系统的复杂性，降低能耗，优化蚀刻和沉积工艺将成为革命性的解决方案。

浦卓科技的射频等离子电源解决方案(定制偏置波形发生器)为芯片制造提供了无与伦比的解决方案或前所未有的精度和控制力。

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我们的定制化偏压波形发生器可以直接控制指向晶圆表面的离子能量，具有离子能量分布区很窄的优势。离子能量与离子通量解耦，为蚀刻速率控制提供了新的可能性，并通过具有挑战性的材料组合实现了高选择性。此外，由于不需要匹配网络并且在低频下运行，与传统射频发生器相比，该发生器可以降低能耗，减少碳排放和每片晶圆成本。

多功能性

Axiom定制的波形发生器是高度通用的，适用于沉积和蚀刻工艺，可以在整个能量范围内实现高精度控制。原子层蚀刻、原子层沉积和传统的反应离子蚀刻工艺都可以因此受益。通过将离子通量与离子能量解耦，可以在更高的离子能量下更好地控制蚀刻速率。低于7eV的窄离子能量分布区域保证了高选择性，即使是面对有挑战性的材料组合也同样可以保持这个优势。这类模块与使用远程(ICP / ECR)或直接(CCP)等离子体源的反应器兼容，使其对导电和介电材料层都有效。

此外，随模块一起交付的工具套件可以提供对该流程的直接监控。

可靠性

Axiom定制波形模块可以完全基于PCB来制造，几乎完全可以在具备自动质量控制系统和自动测试系统的自动化生产线上生产，最大限度地降低了人为错误的风险。一旦完成，它将符合SEMI标准。

目前风冷功能评估套件做好了集成到蚀刻和沉积工具中的准备，因此研发工程师可以测试这项技术在特定条件下的性能表现。该项技术也可以百分百地适用客户定制化的修改和调整。

一旦这些评估成功完成，工具制造商就可以使用定制波形发生器作为客户的差异化产品基础，并将其嵌入到后续的半导体制造过程中。在现有模块的基础上，需要进行定制化才能实现全尺寸生产。

通过完全定制化来满足特定的需求是非常可能的。

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